صفحه محصول - پاورپوینت اساس تکنولوژی خلاء

پاورپوینت اساس تکنولوژی خلاء (pptx) 68 اسلاید

دسته بندی : پاورپوینت

نوع فایل : PowerPoint (.pptx) ( قابل ویرایش و آماده پرینت )

تعداد اسلاید: 68 اسلاید

قسمتی از متن PowerPoint (.pptx) :

بنام خدا اساس تکنولوژی خلاء ایجاد خلاء مستلزم دو فرآیند است 1- تخلیه گازهای که در آغاز در حجم محفظه وجود داشته 2- سازگاری بین گنجایش پمپ و تولید گازی که از اول در فاز گازی نبوده بلکه ازدرزها (حقیقی یا مجازی) نشت کرده است . که دومی گازی است که جدار ها ومواد موجود در محفظه آزاد می شوند . موضوعات اساسی تکنولوژی خلاء مورد بحٍث عبارنند از : 6- کاربرد عملی تکنولوژی خلاء 1- سرعت پمپ ها و رسانای مجازی که بوسیله آنها پمپ به محفظه کار اتصال داده است 2- ساخت نحوه عملکرد آنها 3- روشهای محاسبه فشارهای ایجاد شده وشناسایی گازی تشکیل دهنده. 4- طراحی و انتخاب مواد . کمینه نمودن نشتها (مجازی وحقیقی) 5- تکنیکهای ضروری ویژه برای ایجاد و اندازه گیری بالا ترین خلاء ها Workshop on vacuum and thin film technology, Karaj. 2007 طراحی و انتخاب مواد وکمینه نمودن نشتها (مجازی وحقیقی) مواد 1- خواص مواد ونیازهای طراحی 2- شیشه و اتصالات شیشه به فلز 3-فلزات 4- پلاستیک ها 5- واکس و گریس ها 6- اتصالات قابل باز وبسته شدن و حرکت در خلاء 7- شیرو دریچه های خلاء 8- گاز زدایی نشت یابی آشکارسازی نشت اندازه گیری فشار 1- نوع بارومتری 2- نوع مکانیکی 3- فشار سنج نوع مک لنود 4- فشارسنج های رسانایی گرمایی 5- فشارسنج یونشی کاتد ذاغ 6- فشارسنجهای یونشی کاتد سرد 7- فشار سنج های وابسته به دیگر ویژگیهای فیزیکی کاربرد عملی تکنولوژی خلاء_____ 1- خلاء به عنوان يك عايق الكتريكي 2- جدا سازي توسط تقطير در خلاء 3- انجماد خشك 4- ساختلامپ ها، لوازم گرما يوني و نيمه رسانا 5- متالوژي خلاء 6- محيط آزمايشي فضاپيما 7- خلاء به عنوان عايق گرمايي و غيره.............. Levels of vacuum__________ Rough vacuum – 10-2 mBar->1 Atm – a simple single or double stage rotary pump. Edwards Sputter coater for EM specimens • Rubber O-ring seals • Short pump-down time Material and Energy Research Centre (MERC) Semiconductor and Device Fabrication Levels of vacuum_________ • Rough vacuum – 10-2 mBar->1Atm – a simple single or double stage rotary pump. • High vacuum – 10-6 mBar->10-2 mBar – Require a compound pumping system with a high vacuum pump backed by a rotary pump. – Sealing system on chambers etc. usually rubber or viscoelastomer (viton) o-rings. Edwards Evaporator / coater. • O-ring seals • 1-2 Hour pumpdown Material and Energy Research Centre (MERC) Requirements for Vacuum__________ • Units – A wide variety of units are used in pressure measurement for vacuum. – Although the SI unit is Pa, mBars are widely used on virtually all instrumentation. – 1 Bar = 1 Atm = 105 Pa = 103 mBar = 760 Torr Levels of vacuum______________________ Rough vacuum – 10-2 mBar->1Atm – a simple single or double stage rotary pump. • High vacuum – 10-6 mBar->10-2 mBar – Require a compound pumping system with a high vacuum pump backed by a rotary pump. – Sealing system on chambers etc. usually rubber or viscoelastomer (viton) o-rings. • UHV etc. – 10-10 mBar->10-6 mBar – Similar pumping schemes to high vacuum – Requires a leak-tight system with minimal outgassing. – Can only reach<10-8 mBar after lengthy pumping and baking. Custom UHV sputter system. • All-metal seals • 12-25 hour pump-down • Load-lock Material and Energy Research Centre (MERC) • Controlled atmosphere – Furnaces • Required for processing reactive materials. • Can compensate for poor vacuum by increasing the inert gas flow. • Mean free path • The mean free path (mfp) depends inversely on the pressure. – film deposition • Required for any thin film deposition process. • Low arrival rate of impurity atoms • Control the mean free path in the gas. – electron microscopes • Are vacuum systems, though pretty poor ones in most cases. • Electrons must get from the gun to the sample without scattering. Applications________________________ Material and Energy Research Centre (MERC)